光微波紫外线除臭设备原理

应用于工业的紫外线波长154nm-254nm，波长越短能量越大，254nm以下波长的紫外线能够裂解O2，产生O3，大于254nm波长基本不能裂解O2，由于154nm-185nm的波长相对比较短所以“杀伤”的空间范围也较小。而185nm-254nm尽管波长较长但是杀伤空间范围相对较大。

光解氧化除臭设备，采用NBL标准紫外线灯，产生紫外线，其中154nm-185nm波长在系列光谱中使占比例14%，紫外线剂量大于45mw/cm2，光子能量大于1000kJ/mol，是当前工业UV/O3紫外灯中剂量和能量大的紫外线，氧化键能小于380kJ/mol（常见化学键的键能和键长见下表）的污染物，紫外线光解氧气产生臭氧，臭氧浓度按照1.8Kg/h配置，设计臭氧浓度200mg/m3，臭氧能氧化金属性较强的污染物，臭氧量可根据污染物的浓度以及后续反应时间设定。

废气的光解氧化机理包括两个过程：一是在产生离子群体的过程中，数量的有害气体分子受作用，本身分解成单质或转化为物质。二是含有大量粒子和离子群体，与大分子气体（如苯、甲苯等）作用，打开了其分子化学键，转化为小分子物质。氧离子具有很强的氧化性，它能的氧化分解不受负离子作用控制的物。和废气反应后多余的氧离子（正），能与氧离子（负）很快结合成中性氧，因而多地对设备及环境造 成不利影响。三大量活性氧在紫外线的作用下能加速氧化速度，氧化效率。

在波长范围154nm-184.9nm（1200KJ/mol-600KJ/mol）紫外线的作用下，一方面空气中的氧被裂解，然后组合产生臭氧；另一方面将污染物化学键断裂，使之形成游离态的原子或基团；同时产生的臭氧参与到反应过程中，使废气终被裂解，氧化成简单的稳定的化合物CO2、H2O、N2，一系列过程的可能性决定于：

  （1）污染物分子能否被裂解，取决于其化学键能是否比所提供的UV光子能力低？

  （2）裂解反应的时间是否1S，氧化反应的时间是否达到5-8S；

  （3）UV光解的环境是否稳定、需要反应温度＜70°，粉尘量＜200mg/m3,

相对温度＜200%。

   （4）污染物中某些化学元素的含量是否过高（如CL、F）；

常见化学键的键能和键长

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